Geräteausstattung

Rasterelektronenmikroskope

FEI (PHILIPS) ESEM XL30 FEG

(Environmental Scanning Electron Microscope XL 30 Field Emission Gun)

Auflösungsgrenze  2 nm, SE-Bild

EDAX Falcon Genesis

Rasterelektronenmikroskopie

S 3000N Hitachi

(Niederdruckvakuumsystem)

Auflösungsgrenze 3 nm, SE-Bild

Möglichkeiten und Präparationsausstattung REM
Möglichkeiten REM
  • Highvakuum
  • Lowvakuum, für empfindliche Proben, die nicht beschichtet werden
  • ESEM: für unfixierte oder feuchte Proben, sowie tieftemperierte Probe bis -20°C
  • Proben: biologische Proben,  Metalle,  Polymere,  Keramik, etc.
Präparationsausstattung REM
  • Kathodenzerstäubungsanlage Balzers SCD 030
  • Leica EM SCD500 + QSG 100:
    • Sputtern der Probe mit Metallen z. B. Gold, Platin etc.
    • Bedampfung mit Kohle
    • Evaporation von Metallen
  • Critical Point Dryer Polaron
  • Critical Point Dryer Balzers CPD 010

 

Transmissionselektronenmikroskop

Transmissions-elektronenmikroskopie
LEO 906E
40-100 KV Beschleu-
nigungsspannung
Auflösung 0,45 nm Punktauflösung

Präparationsausstattung TEM
Leica EM TRIM
  • Reichert TM 60
  • LKB Knifemaker Type 7801 A (Herstellung der Glasmesser)
  • Diamantmesser für Ultra-  und Semidünnschnitte
  • Reichert Ultracut S mit Tieftemperaturschneidesystem FC S
  • Leica EM UC 6
  • Metallspiegelkryofixation Reichert MM80
  • Tieftemperatureinbettsystem Leica AFS2 mit FSP
  • LKB Ultrostainer