Geräteausstattung
Rasterelektronenmikroskope
FEI (PHILIPS) ESEM XL30 FEG
(Environmental Scanning Electron Microscope XL 30 Field Emission Gun)
Auflösungsgrenze 2 nm, SE-Bild
EDAX Falcon Genesis
Rasterelektronenmikroskopie
S 3000N Hitachi
(Niederdruckvakuumsystem)
Auflösungsgrenze 3 nm, SE-Bild
Möglichkeiten und Präparationsausstattung REM
Möglichkeiten REM
- Highvakuum
- Lowvakuum, für empfindliche Proben, die nicht beschichtet werden
- ESEM: für unfixierte oder feuchte Proben, sowie tieftemperierte Probe bis -20°C
- Proben: biologische Proben, Metalle, Polymere, Keramik, etc.
Präparationsausstattung REM
- Kathodenzerstäubungsanlage Balzers SCD 030
- Leica EM SCD500 + QSG 100:
- Sputtern der Probe mit Metallen z. B. Gold, Platin etc.
- Bedampfung mit Kohle
- Evaporation von Metallen
- Critical Point Dryer Polaron
- Critical Point Dryer Balzers CPD 010
Transmissionselektronenmikroskop
Transmissions-elektronenmikroskopie
LEO 906E
40-100 KV Beschleu-
nigungsspannung
Auflösung 0,45 nm Punktauflösung
Präparationsausstattung TEM
Leica EM TRIM
- Reichert TM 60
- LKB Knifemaker Type 7801 A (Herstellung der Glasmesser)
- Diamantmesser für Ultra- und Semidünnschnitte
- Reichert Ultracut S mit Tieftemperaturschneidesystem FC S
- Leica EM UC 6
- Metallspiegelkryofixation Reichert MM80
- Tieftemperatureinbettsystem Leica AFS2 mit FSP
- LKB Ultrostainer
